Om vakuum ultraviolett laser kan fokuseras i en liten strålfläck, kan den användas för att studera strukturen hos mesoskopiska material och göra nano-objekt med bättre precision.
För att uppnå detta mål har kinesiska forskare uppfunnit ett 177-nanometer VUV-lasersystem som kan uppnå submikronfokus vid långa brännviddar.
Ett forskningsresultat publicerat i" Light Science& Applikationer" (LightScience GG-förstärkare; applikationer) visar att forskare har utvecklat ett 177nmVUV-laserskanning av fotoelektriskt mikroskopsystem med en sfärisk aberrationsfri bandplatta, som har en lång brännvidd (——45mm). ; 1μm.
Jämfört med DUV-laserkällan med rumslig upplösning som för närvarande används för ARPES, kan 177nmVUV-laserkällan hjälpa ARPES-mätning för att täcka ett större momentum och har bättre energiupplösning.
VUV-lasersystemet har en ultralång brännvidd (-45mm), rumslig upplösning under mikron (-760nm), ultrahög energiupplösning (-0.3meV) och ultrahög ljusstyrka (-355MWm-2). Den kan appliceras direkt på vetenskapliga forskningsinstrument såsom fotoelektriskt emissionselektronmikroskop (PEEM), vinkelupplöst fotoelektronspektrometer (ARPES), djup ultraviolett laser Raman-spektrometer.
För närvarande har systemet avslöjat de fina energibandegenskaperna hos olika nya kvantmaterial, såsom kvasi-endimensionell topologisk superledare TaSe3, magnetiska topologiska isolatorer (MnBi2Te4) (Bi2Te3) m-familjen och så vidare.